エレクトロニクス用ハイバリアフィルムの材料と技術【大阪開催】

ハイバリアフィルムの更なる高性能化に向けてバリアコート技術を中心にアンダーコートやベースフィルム改良手法まで詳解!

エレクトロニクス用ハイバリアフィルムの材料と技術

〜バリア性の発現と劣化および開発の方向性〜

主催:R&D支援センター

日時:2012年6月5日(火) 12:30〜16:30

【受講対象】
これからバリアフィルムの開発を始める技術の方を始め、営業および企画担当の方。

【習得できる知識】
バリア性発現の原理と劣化原因、ロール・ツー・ロールの課題、スパッタ、蒸着、CVDの使い分け方など。

【講座のポイント】
 フィルム素材の高機能化およびデバイスの軽量化フレキシブル化のために、ハイバリアフィルムの更なる高性能化は重要な課題となってきています。包装材料向けに始まったバリアフィルムには透明性やガラス並みのバリア性が求められています。
 これらの特性を発現させるための基本と生産プロセスにおける現実的な課題を把握することは、収率の改善や次期商品を開発するために重要となります。
 本講演ではドライコーティングによるバリアコート技術を中心に、ベースフィルムやアンダーコートも含めて現在の技術の思想と、今後の方向性について解説いたします。

【プログラム】
1.ポリマーのガス透過性
  1-1.ポリマーの構造
  1-2.透過性に関わる因子
  1-3.パーマコール値
2.ベースフィルムの改良
  2-1.分子構造
  2-2.結晶構造
  2-3.フィラー添加
3.バリアコーティング
  3-1.ウエット
   3-1-1.K-コート
   3-1-2.Kコート代替
   3-1-3.フィラー添加
  3-2.ドライ
   3-2-1.アルミナ系
   3-2-2.シリカ
   3-2-3.多層コート
4.バリア層の劣化要因
  4-1.ピンホール
  4-2.クラック
  4-3.スクラッチ
5.ロール・ツー・ロールの課題
  5-1.熱負け
  5-2.アウトガス
  5-3.静電気
6.今後の方向性
  6-1.極薄ガラス
  6-2.自己修復型
  6-3.理想的バリアコートシステム

【質疑応答・名刺交換・個別相談】