光学薄膜の基礎と物性評価技術
光学薄膜の最適化に必要不可欠となる、薄膜を評価する技術を修得し、高度化する薄膜要求に応えた、機能製品開発に活かそう！
共催：Ｒ＆Ｄ支援センター
日時：2011年10月31日（月） 10:30〜17:30
[講師の言葉]
光学薄膜は古くから使われているが、最近は使用環境が広がりそこに要求される耐久性は厳しいものになりつつある。実際に各種の評価が行われているが、光学薄膜が極めて薄い薄膜であるため、一般の評価装置では正しい結果が得られないことも多い。
従来、光学薄膜といえばカメラ・望遠鏡等の反射防止膜がイメージされることが多かった、しかし近年は各種センサー類やスマートフォンの表面処理、太陽電池など光学以外の分野で幅広く用いられている。また薄膜については、欠陥が少なく、耐久性が高いことなど、求められる条件として、厳しいものが多くなっている。
本講座では、光学薄膜の製法を学びながら、100nm〜1000nmという光学薄膜特有の膜厚領域に特化した評価方法を述べ、薄膜の特性・評価法に理解を深めていただきたい。
[プログラム]
Ⅰ．はじめに
Ⅱ．光学薄膜とは
１．光学薄膜とは
２．光学薄膜の作成法
３．薄膜成長のプロセス
４．各作成法の特徴
Ⅲ．光学薄膜の用途
１．反射防止膜
２．フィルター
３．透明導電膜
４．撥水・撥油性薄膜、指紋防止膜
Ⅳ．真空蒸着の発展
１．従来法
２．イオンプレーティング法
３．イオンアシスト法
４．プラズマアシスト法
Ⅴ．材料と蒸発源
１．材料の分類
２．蒸発源とその種類
Ⅵ．光学薄膜の評価法
１．応力
ａ．応力の定義
ｂ．応力の測定法
ｃ．応力データの注意点
２．硬度
ａ．硬度の定義
ｂ．硬度の測定法
ｃ．硬度データの注意点
３．密着力
ａ．密着力の定義
ｂ．密着力の測定法
ｃ．密着力データの注意点
Ⅶ．まとめ
